充氬式火花直讀光譜儀CX-9500
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500應(yīng)用領(lǐng)域:
**代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗(yàn),中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。充氬式火花直讀光譜儀CX-9500體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的**選擇。
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500主要特點(diǎn):
1、**代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制 ;
2、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同**光譜儀技術(shù)同步;
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用
4、升級多基體方便,無須變動增加硬件 ;
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ;
6、體積小、重量輕, 移動安裝方便 ;
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ;
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500其它特點(diǎn):
1、可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦 基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果;
3、光學(xué)系統(tǒng)采用充氬恒溫光室, 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性優(yōu)良;
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使光室容積更小,充氬速度不到普通光譜儀的一半;
5、自動光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描,**接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進(jìn)行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定;
6、開放式的電*架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7、工作曲線采用**標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;
9、固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性;
10、銅火花臺底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;
11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣;
12、采用鎢材料電*,電*使用壽命更長,并設(shè)計(jì)了電*自吹掃功能,清潔電*更加容易;
13、高性能DSP及ARM處理器,具有*高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況;
14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
15、核心器件全部原裝進(jìn)口,**了儀器優(yōu)良品質(zhì)。
充氬式火花直讀光譜儀CX-9500技術(shù)參數(shù):
| 
				 光學(xué)系統(tǒng)  | 
		|
| 
				 光學(xué)結(jié)構(gòu)  | 
			
				 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)  | 
		
| 
				 光室溫度  | 
			
				 自動控制恒溫:35℃±0.5℃  | 
		
| 
				 波長范圍  | 
			
				 160-800nm  | 
		
| 
				 光柵焦距  | 
			
				 300 mm  | 
		
| 
				 光柵刻線  | 
			
				 3600 l/mm  | 
		
| 
				 上等光譜線色散率  | 
			
				 1.2 nm/mm  | 
		
| 
				 探測器  | 
			
				 多塊高性能線陣CCD  | 
		
| 
				 平均分辨率  | 
			
				 30pm/pixel  | 
		
| 
				 激發(fā)臺  | 
		|
| 
				 氣 體  | 
			
				 沖氬式  | 
		
| 
				 氬氣流量  | 
			
				 激發(fā)時(shí)3-5L/min  | 
		
| 
				 電 *  | 
			
				 鎢材噴射電*技術(shù)  | 
		
| 
				 吹 掃  | 
			
				 點(diǎn)擊自吹掃功能  | 
		
| 
				 補(bǔ) 償  | 
			
				 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)  | 
		
| 
				 分析間隙  | 
			
				 樣品臺分析間隙:4mm  | 
		
| 
				 激發(fā)光源  | 
		|
| 
				 類 型  | 
			
				 HEPS數(shù)字化固態(tài)光源  | 
		
| 
				 頻 率  | 
			
				 100-1000Hz  | 
		
| 
				 放電電流  | 
			
				 1-80A  | 
		
| 
				 特殊技術(shù)  | 
			
				 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)  | 
		
| 
				 預(yù) 燃  | 
			
				 高能預(yù)燃技術(shù)  | 
		
| 
				 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)  | 
		|
| 
				 處理器  | 
			
				 優(yōu)異ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理  | 
		
| 
				 接 口  | 
			
				 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸  | 
		
| 
				 電源與環(huán)境要求  | 
		|
| 
				 輸 入  | 
			
				 220VAC 50Hz  | 
		
| 
				 功 率  | 
			
				 分析時(shí)*大700W,待機(jī)狀態(tài)40W  | 
		
| 
				 工作溫度  | 
			
				 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)  | 
		
| 
				 工作濕度  | 
			
				 20-80%  | 
		
| 
				 尺寸與重量  | 
		|
| 
				 主機(jī)尺寸  | 
			
				 700*660*340 mm  | 
		
| 
				 重 量  | 
			
				 約30Kg  | 
		
    
    
